学霸型科技大佬 (桃李成荫)

　　“每年高端光刻机产量二三十台。”
　　“初期，可以想办法拿捏一下他们关键技术，先买几台过来，把生产线搞起来。”
　　“具体如何拿捏，我有一定头绪。先简单说一下，大家共同探讨。”
　　辛启天抱起果汁，喝了一大口，接着说道：“光刻机分为紫外光源、深紫外光源、极紫外光源。”
　　“最早的光刻机光源，是汞灯产生的紫外光源UV。”
　　“后来，采用准分子激光的DUV。”
　　“可以预见的是，ArF最高只能实现22nm制程的生产。”
　　“EUV是现在的主流，可是只有飞利浦发展而来的ASML公司，可以提供量产的EUV机器。”


第345章 首要目标
　　“当前，业界EUV主要采取的办法，是将二氧化碳激光照射在锡等靶材上，激发出13.5 nm的光子，作为光刻机光源。”
　　辛启天说着，脸上一副不以为然的样子。
　　身为开挂大佬，时间长了，自然要有这样的骄傲情绪。
　　尽管他自己在这些领域中，并没有任何新技术新知识点的研发，仅仅是已经学习熟知当前体系。
　　但是，依靠强大的开挂后的能力，让辛启天非常敏锐的察觉，其实现有的光刻机技术，非常简陋。
　　光刻是集成电路最重要的加工工艺，就好比传统制造业车间中车床的作用。
　　在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。
　　光刻也是制造芯片的最关键技术，占据芯片制造成本的35%以上。
　　在如今的科技与社会发展中，光刻技术的增长，直接关系到大型计算机的运作等高科技领域。
　　而现如今的光刻机，其实仍然处于最原始的量变积累。
　　运行时，依靠庞大的电力吞吐，吸取足够庞大的能量，来让机器运作！
　　大力出奇迹嘛，就像是前几个世纪中，军工产品里，人们全都盯着重大火炮去研究！
　　谈到了详细的技术信息，在场众人，有不少并不清楚。
　　于是乎，都没有再发言，纷纷一脸小学生认真脸。
　　“光刻机，有点类似于照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上，而光刻是刻电路图和其他电子元件。”
　　“把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。利用光刻机发出的光，通过具有图形的光罩，对涂有光刻胶的薄片曝光。”
　　“光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，薄片就有了电子线路图的作用。”
　　“光刻实时上，也不过六七十年发展历史。”
　　“47年，贝尔实验室发明第一只点接触晶体管。59年，仙童半导体研制世界第一个适用单结构硅晶片。”
　　“60年代，仙童提出CMOS IC制造工艺，并且建立了世界上第一台2英寸集成电路生产线。GCA公司开发出光学图形发生器和分布重复精缩机。”
　　“70年代，GCA开发出第一台分布重复投影曝光机，集成电路图形线宽从1.5μm缩小到0.5μm节点。”
　　“80年代，SVGL公司开发出第一代步进扫描投影曝光机，集成电路图形线宽从0.5μm缩小到0.35μm节点。”
　　“90年代中后期，光学光刻分辨率到达70nm的极限。”
　　“新世纪以来，业内在已经不得不动手研究，包括极紫外线光刻技术，电子束光刻技术，X射线光刻技术，纳米压印技术等。”
　　“现有的光刻机构造，一般分为，照明系统、Stage系统、镜头组、搬送系统、Alignment系统。”
　　“新的各种光刻技术研究中。普遍的把软X射线投影光刻称作极紫外投影光刻。”
　　“当前，对极紫外投影光刻EUV技术的研究最为深入，也取得了突破性的进展，使极紫外投影光刻技术最有希望被普遍使用到以后的集成电路生产当中。”
　　“是距实用化最近的一种深亚微米的光刻技术。”
　　“业内，普遍有一种认知，如果不早点推出极紫外光刻技术，来对当前的芯片制造方法做出全面的改进，将使整个芯片工业处在岌岌可危的地步。”
　　“所以，其实新时代的节点，变革点，已经能够清晰的预见。”
　　“极端紫外光刻技术所使用的光刻机的对准套刻精度要达到10nm，其研发和制造原理实际上和传统的光学光刻在原理上十分相似。”
　　“对光刻机的研究重点，是要求定位要极其快速精密，以及逐场调平调焦技术。因为光刻机在工作时拼接图形，和步进式扫描曝光的次数很多。不仅如此，入射对准光波信号的采集，以及处理问题还需要解决。”
　　“EUV技术的进展还是比较缓慢的，投资巨大。当前，其实没有几家厂商，能够将这项技术应用于生产中。唯一的ASML公司，做出来的东西，也仅仅算是勉强能用。”
　　“各家厂商都清楚，半导体工艺向往下刻，使用EUV技术是必须的。波长越短，频率越高，光的能量正比于频率，反比于波长。”
　　“但是因为频率过高，传统的光溶胶直接就被打穿了。现在，半导体工艺的发展已经被许多物理学科从各个方面制约了。”
　　“现在的问题的是，第一，EUV光刻机造价太高，好几千万优元。”
　　“第二，没有真正合适的光源。”
　　“第三，没有合适的掩模。第四，未研发出合适的光刻胶！”
　　“所以，我是打算，咱们可以在光源上，琢磨琢磨。”
　　说道这里，辛启天颇有些意犹未尽舔了下嘴角，眼神放光的说道：“其实如果不考虑整体行业发展，我个人，更想去研究电子束光刻。”
　　“用电子源发出电子束，经过掩膜和电子透镜，将图案投射到硅片上，从而形成电子线路！”
　　“但是，电子束高精度扫描成像曝光效率低。在抗蚀剂和基片中的散射和背散射现象，造成的邻近效应。以及其他很多问题。”
　　“整个行业，目光都不聚集在这里。”
　　“领先一步是天才，领先十步就是疯子。”
　　“不过，我对这东西，非常感兴趣。如果能做的好，可以应用于量子元器件等等生产。甚至，还可以搞粒子束武器。”
　　停顿了片刻，最终，辛启天还是没有把内心深处的想法说出来。
　　那就是，电子束如果技术进一步成熟，完备到最基础的粒子阶段。对于他搞出来的常温超导体生产制造，应该是有一定帮助。
　　或许可以摆脱巨大能耗，来保持超导体状态的机器桎梏。
　　当然，仅仅是有可能。
　　在学习这些理论当中，辛启天的一点发散性思维罢了。他并没有完全深入去研究。
　　一直以来，辛启天都不会很深入的脱离现实，去研究高深的理论知识。
　　相比于科学家来说，辛启天更像是一个工程师！他最童真的愿望，就是制造出各种幻想当中的机器。而不是单纯在理论中，寻找未来的理论。
　　最初研究量算，是因为辛启天必须寻找，拿出一个有力的成果，来增加自己强大的底气和实力。
　　东西是研究出来的，但完全没有市场应用效应。一台大型量算，造价高达近百亿优元。运行中，每年也得好几十亿投进去。
　　根本就是入不敷出。
　　如果没有AI的加成，如果不是辛启天开挂。这东西运行起来，也不一定能够帮助科学发展。
　　开机一段时间，消耗的投资，根本不足以正常科学家进行任何有效的研究。完全浪费资金！
　　QLTS量算出来了好些年。
　　可是受制于现实科学技术因素，辛启天一直无法真的有效解决应用的问题。
　　单一的微型量子元器件，他都不知道该怎么生产出来。
　　理论积累，这些年断断续续倒是有不少。生产工艺技术，如果能够达成，那么对于世界的影响，丝毫不亚于启天AI的出现！
　　在发现电子束一些模糊的前景后，辛启天心理挠痒痒一样，很想去研究。
　　可是，必须立足于现实。他最终还是决定，去琢磨EUV技术。
　　没办法，没有整个生产链体系效应。就像是最开始的量算，造出来，也仅仅是表明自己强大底气。
　　问题是，该知道的人，已经知道了。
　　其他不用炫耀的地方，自然不会炫耀。没名没利，只是满足自我内心问道精神。
　　辛启天在开挂十多年后，已经成熟起来。能够学会选择，学会放弃。
　　正是基于前世积累，辛启天不是一个单纯的一位追求求知欲的科学家。而是个现实的工程师。
　　因为，科学家发起疯来，比如说搞生命科学。
　　一旦不懂得选择和放弃，那么，很有可能带来极为恐怖严重的后果！
　　人类文明，甚至都会发生改变。
　　在一些个场合，新闻媒体上，国内高校推辞不过去的演讲中，辛启天多次提到过这个概念和思考。
　　沉思良久，辛启天很是遗憾的叹息一声，“算了，不提粒子束，弦网液体这些东西。”
　　“我们言归正传！”
　　“我的看法是，直接上手EUV技术，先从光源研究。”
　　“光源由光的产生、光的收集、光谱的纯化与均匀化三大单元组成。”